Трубчатая печь плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD) для НИИ из Франции

Покупатель: Начно-исследовательский институт Франция           

Производитель: Henan Sante Furnace Technology Co., Ltd.

Модель: STGP-100-12        

Основное назначение: данное оборудование позволяет получать ионизированные газы с атомами вещества тонкой пленки, в вакуумной камере формируется плазма, благодаря ее значительной химической активности улучшаются условия для протекания химических реакций, что вызывает химическую реакцию газообразных веществ, из которых формируется тонкая пленка. Таким образом, реализуется новая технология производства тонкопленочных материалов, в результате которой получается пленка, осажденная на подложку. Данная технология применима для осаждения пленок SiO2 и SiNx при температуре 1200°C.

Основные параметры:

Максимальная температура: 1200°С

Рабочая температура: 1100°С

Размеры рабочей камеры: 100*1200 мм (диаметр трубы * длина) 

Нагревательный элемент: фехралевая проволока

Напряжение: 220 В 

Изображения продукции: